多功能EVG7300 UV納米壓印光刻係統可以支持多種相關的UV工藝:SmartNIL，晶圓級光學(WLO)和堆疊-三種功能合並在一個靈活的工具中

納米壓印支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，並可選擇背麵對準。此外，該係統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱，可在最小的占位麵積上提供了優於其他品牌的掩模對準技術，並具有最高的產能，先進的對準功能和優化的總擁有成本。操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時間以及高效的全球服務和支持使它成為任何製造環境的理想解決方案。EVG6200 NT或安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準係統有半自動或自動配置，並配有集成的振動隔離功能。

光刻機Track係統通過集成的生產係統和結合掩模對準和曝光以及集成的預處理和後處理的高度自動化功能，完善了EVG光刻機產品係列。HERCULES光刻機Track係統基於模塊化平台，將EVG已建立的光學掩模對準技術與集成的清潔，光刻膠塗層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。將HERCULES平台變成了“一站式服務”，在這裏將經過預處理的晶圓裝載到工具中，然後將結構化的經過處理的晶圓退回。

長達 150 毫米的自動化全場紫外納米壓印解決方案，采用 EVG 專有的 SmartNIL 技術

我們的EVG770分步重複納米壓印光刻機是用於步進式納米壓印光刻的通用平台，可用於有效地進行母版製作或對基板上的複雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大麵積均勻地複製模板。結合金剛石車削或直接寫入方法，分步重複刻印通常用於有效地製造晶圓級光學器件製造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。