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Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述：
FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。
FR-pRo膜厚儀是一個模塊化和可擴展平台的光學測量設備，用於表征厚度範圍為1nm-1mm 的塗層。
FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定製的，並廣泛應用於各種不同的應用。
比如：
吸收率/透射率/反射率測量，薄膜特性在溫度和環境控製下甚至在液體環境下的表征等等…
Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用：
1、大學&研究實驗室
2、半導體行業
3、高分子聚合物&阻抗表征
4、電介質特性表征
5、生物醫學
6、硬塗層，陽極氧化，金屬零件加工
7、光學鍍膜
8、非金屬薄膜等等…
FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊，核 心部件包括光源，光譜儀（適用於 200nm-2500nm 內的任何光譜係統）和控製單元，電子通訊模塊。
此外，還有各種各種配件，比如:
1.用於測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架；
2.用於表征塗層特性的薄膜厚度工具；
3.用於控製溫度或液體環境下測量的加熱裝置或液體試劑盒；
4.漫反射和全反射積分球。
通過不同模塊組合，蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。
Specificatins 規格：
| Model | UV/Vis | UV/NIR -EXT | UV/NIR-HR | D UV/NIR | VIS/NIR | D Vis/NIR | NIR |
| 光譜範圍 (nm) | 200 – 850 | 200 –1020 | 200-1100 | 200 – 1700 | 370 –1020 | 370 – 1700 | 900 – 1700 |
| 像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648 & 512 | 3648 | 3648 & 512 | 512 |
| 厚度範圍 | 1nm – 80um | 3nm – 80um | 1nm – 120um | 1nm – 250um | 12nm – 100um | 12nm – 250um | 50nm – 250um |
| 測量n*k 蕞小範圍 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm |
| 準確度*,** | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 2nm or 0.2% | 3nm or 0.4% |
| 精度*,** | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.1nm |
| 穩定性*,** | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.15nm |
| 光源 | 氘燈 & 鎢鹵素燈(內置) | 鎢鹵素燈(內置) | |||||
| 光斑 (直徑) |
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| 350um (更小光斑可根據要求選配) |
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| 材料數據庫 |
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| > 600 種不同材料 |
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Accessries 配件：
| 電腦 | 19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦 |
| 聚焦模塊 | 光學聚焦模塊安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um |
| 薄膜/比色皿容器 | 在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量 |
| 接觸式探頭 | 用於塗層厚度測量和光學測量的配件，適用於彎曲表麵和曲麵樣品 |
| 顯微鏡 | 用於高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量 |
| Scanner (motorized) | 帶有圓晶卡盤的Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動化樣品台可選，Polar（R-Θ）樣品台支持反射率測量，Cartesian（X-Y）樣品台支持反射率和透射率測量 |
| 積分球 | 用於表征塗層和表麵的鏡麵反射和漫反射 |
| 手動 X-Y 樣品台 | 測量麵積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平台 |
| 加熱模塊 | 嵌入FR-tool 中，範圍由室溫~200oC，通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度). |
| 液體模塊 | 聚四氟乙烯容器，用於通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具， 用於將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中 |
| 流通池 | 液體中吸光率、微量熒光測量 |
工作原理：
白光反射光譜(WLRS)是測量垂直於樣品表麵的某一波段的入射光，在經多層或單層薄膜反射後，經界麵幹涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜（透明，半透明或全反射襯底）的厚度及 N*K 光學常數。
* 規格如有更改，恕不另行通知; ** 厚度測量範圍即代 表光譜範圍，是基於在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。
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